離子鍍的種類有很多，常用的離子鍍是以蒸發(fā)鍍膜為基礎(chǔ)的，即在真空中使被蒸發(fā)物質(zhì)氣化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子沖擊作用的同時，哈默納科鍍膜諧波傳動CSG-14-50-GH-J6A把蒸發(fā)物蒸鍍在基體上。空心陰極離子鍍〔HCD)具有較多的*性。空心陰極放電離子鍍它是一種鍍膜效率高、膜層質(zhì)量好的方法，目前已用于工業(yè)生產(chǎn)。

   3.離子注入加工

   離子注入是將工件放在離子注入機的真空靶中，在幾十至幾百千伏的電壓下，把所需元素的離子注入工件表面。離子注入工藝比較簡單。它不受熱力學(xué)限制，可以注入任何離子，而且注入量可以精確控制。注入的離子固溶于工件材料中，含量可達10%一40 %，注入深度可達1E}m甚至更深·

   由于離子注入本身是一種非平衡技術(shù)，它能在材料表面注入互不相溶的雜質(zhì)而形成一般冶金工藝所無法制得的一些新的合金。不哈默納科鍍膜諧波傳動CSG-14-50-GH-J6A管基體性能如何，它可在不犧牲材料整體性能的前提下，使其表面性能優(yōu)化，而且不產(chǎn)生任何顯著的尺寸變化。但是，離子注入的局限性在于它是一個直線轟擊表面的過程，不適合處理復(fù)雜的凹入的表面樣品。

   除了常規(guī)的離子注入工藝之外，近年來又發(fā)展了幾種新的工藝方法，如反沖注入法